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拓荊科技(688072)4月8日午間公告，公司擬與沈陽市人民政府國有資產監(jiān)督管理委員會（簡稱“沈陽市國資委”）及其他產業(yè)合作方共同發(fā)起設立遼寧省集成電路裝備及零部件創(chuàng)新中心（簡稱“創(chuàng)新中心”）。

拓荊科技是國內量產型PECVD（等離子體增強化學氣相沉積）、ALD（原子層沉積）、SACVD（次常壓化學氣相沉積）、HDPCVD（高密度等離子體增強化學氣相沉積）、超高深寬比溝槽填充CVD等薄膜沉積設備和混合鍵合設備的領軍企業(yè)。拓荊科技目前已經形成半導體薄膜沉積設備和混合鍵合設備兩個產品系列。拓荊科技聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造三大主設備。

近年來，拓荊科技始終持續(xù)保持高強度的研發(fā)投入，堅持自主創(chuàng)新，在推進新產品研發(fā)、產品產業(yè)化和各產品系列迭代升級的過程中取得了重要成果，包括Flowable CVD設備、PECVD Bianca工藝設備、PE-ALD SiN工藝設備、HDPCVD FSG、HDPCVDSTI工藝設備、鍵合套準精度量測設備等一系列新產品及新工藝經下游用戶驗證導入，實現(xiàn)了產業(yè)化。同時，新型設備平臺PF-300M、PF-300T Plus及新型反應腔Supra-D ACHM、ONO Stack等工藝設備持續(xù)獲得客戶重復訂單，實現(xiàn)大批量出貨，進一步提升了公司產品性能及核心競爭力。

2021年、2022年、2023年、2024年前三季度，拓荊科技研發(fā)投入分別為2.88億元、3.79億元、5.76億元和4.81億元。

對于本次攜手沈陽市國資委等共同發(fā)起設立創(chuàng)新中心事宜，拓荊科技表示，本次創(chuàng)新中心的設立，將充分整合多方優(yōu)勢資源共同發(fā)揮積極作用。一方面，沈陽市國資委發(fā)揮統(tǒng)籌協(xié)調作用，依托其豐富的資源，幫助創(chuàng)新中心對接投資人，為創(chuàng)新中心的發(fā)展提供資金支持并營造良好環(huán)境；另一方面，公司與其他產業(yè)方憑借在半導體設備領域的突出行業(yè)地位和深厚的技術優(yōu)勢，為創(chuàng)新中心的發(fā)展提供有力支撐。

據(jù)介紹，創(chuàng)新中心將基于這些資源和優(yōu)勢的整合，積極響應國家戰(zhàn)略發(fā)展規(guī)劃，圍繞半導體產業(yè)發(fā)展趨勢布局前沿技術，進一步推動整機裝備和零部件企業(yè)集聚發(fā)展，不斷增強產業(yè)協(xié)同效應和創(chuàng)新能力，助力國家集成電路產業(yè)實現(xiàn)高質量發(fā)展。

拓荊科技2024年年報預披露日期是4月25日。此前，公司于2月27日晚披露2024年度業(yè)績快報，2024年度公司實現(xiàn)營業(yè)收入41.03億元，同比增長51.7%；實現(xiàn)凈利潤6.88億元，同比增長3.91%；扣非凈利潤3.56億元，同比增長14.2%。

拓荊科技2024年營業(yè)收入之所以能同比增長51.7%主要系市場需求持續(xù)增長，公司新產品及新工藝訂單陸續(xù)實現(xiàn)收入轉化，營業(yè)收入持續(xù)高速增長。2024年度，拓荊科技出貨超過1000個設備反應腔，創(chuàng)公司歷史年度新高。